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工艺气体净化

优化解决方案

颇尔优质工艺气体净化解决方案

颇尔工艺气体净化系统可清除会导致晶圆缺陷的杂质。分子杂质,也被称作气态或挥发性杂质,最近作为缺陷源而更受关注,可使用颇尔净化解决方案有效滤除。这些净化器可使用材料反应床排除水分、氧气、二氧化碳、一氧化碳、烃和金属羰基化合物等杂质。排出传统颗粒过滤无效的位置的气流中的杂质。我们的材料可清除背景水平的污染物,不会在工艺流中产生金属或其它有害污染物。所有颇尔净化器组件都集成过滤器,用于清除颗粒物。

 

应用:

 

  • 惰性气体
  • 稀有气体
  • 不反应气体
  • 氢化物气体
  • 全氟化碳和腐蚀性气体

 

优点:

 

  • 提高工艺稳定性
  • 提高面积/工艺效率
  • 减少缺陷
  • 减少现有颗粒过滤器的改装
  • 定制滤材,过净化各种气体
  • 拥有成本低

 

工艺气体净化系统和材料可有效清除颗粒过滤无效区域内的杂质。请联系颇尔专家,帮助您优化工艺气体净化系统,通过减少缺陷和提高产率实现最大现场性能。

 

有关提高工艺效率的更多信息,请联系我们的过滤专家团队。 

 
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