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光刻

降低成本,提高产率

颇尔光刻过滤器提高半导体产率

颇尔光刻过滤器使用一系列膜式过滤器,可有效清除光刻工艺化学品中的污染物。它们可避免晶圆表面上的可能有害颗粒物、凝胶微桥缺陷、微孔缺陷以及金属污染。由于滤膜可润湿性强,不会影响排气量,减少产生的微泡以及缩短冲洗时间。

 

过滤器采用优化设计,减少启动时的化学品用量,将导致晶圆表面缺陷的气泡产生降至最低。过滤器可以冲洗空气,避免形成微泡,这对于减少涂装缺陷和提高产量很关键。Ultipleat过滤器设计实现过滤器低压差,将分液时产生的气泡降至最低。

 

颇尔创新的过滤器设计使用大表面积产生低压差,从而提高凝胶清除效率和将微泡产生降至最低。最大限度地提高分液过滤器中的膜表面积,从而有助于避免光阻产生凝胶以及避免凝胶透过滤膜到达晶圆表面。

 

光化学品从高压向低压分配时,低工作压力确保过滤器不会导致光化学品脱气。这最好使用如颇尔不对称膜式过滤器等低压降过滤器实现。尼龙6,6和高密度聚乙烯(HDPE)滤膜与典型光刻化学品完全相容,在可抽出物方面极端清洁,可提供极佳的可润湿性。

 

颇尔光刻过滤器使复杂光阻化学品中的颗粒物最少。选择合适的过滤器基本上可滤除污染物或将其降至最低,不会改变光阻的复杂化学特性。

 

应用:

 

在选择合适的光刻过滤器时,必须考虑几个因素。主体过滤器和使用点(POU)分配过滤器可避免有害颗粒。POU过滤器是精密分配系统的一部分,因此需要小心选择该过滤器,以减少晶圆涂层上的缺陷。除了清除颗粒和凝胶外,POU过滤器选择的关键因素还包括尽量少形成微泡、减少化学品消耗和良好兼容。颇尔使用点囊式过滤器还可安装于囊式过滤器最高点和最低点的通风口和排放口处,确保完全和易于通风。

 

优点:

 

  • 缩短设备关闭时间
  • 提高产率
  • 卓越的可润湿性,可更快启动
  • 用于各种光刻应用的各种滤膜
  • 快速通风设计,将微泡形成降至最低
  • 低滞留体积,减少化学废物

 

颇尔光刻过滤器技术使制造过程流线化,缩短分配系统关闭时间,减少晶圆表面缺陷。了解更多信息,请联系颇尔专家了解如何优化光刻工艺。     

 

有关提高工艺效率的更多信息,请联系我们的过滤专家团队。

 

 
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