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微电子

半导体

提供过滤、纯化和分离解决方案,广泛用于涵盖各类流体,例如化学品、气体、水、研磨液和光阻。

更高的流量。更长的使用寿命。

符合并超越工业标准

我们的高科技解决方案可广泛应用于半导体行业的各种应用,如工艺气体过滤、微量水分检测、超纯水以及湿式蚀刻和清洁。我们开发和制造的化学品过滤和纯化产品是几十年服务于半导体和相关行业的结晶。

 

我们和供应商以及最终用户之间建立了合作伙伴关系,以提供卓越的化学机械抛光(CMP)过滤解决方案,并始终致力于开发更高效、更经济的产品,以满足各种研磨液和相关应用的需要。半导体制造商选择颇尔过滤和纯化产品用于其工艺,以实现功能、质量、节省成本和提高生产效率。

Particle removal efficiency evaluation of filters in IPA

UC-O-006_FINAL_PAPER.pdf

化学品

污染控制是半导体设备制造过程中产生的最棘手的问题之一。颇尔公司提供过滤、纯化和分离解决方案,可广泛用于各类流体,例如化学品、气体、水、CMP研磨液和光阻。
污染控制是半导体设备制造过程中产生的最棘手的问题之一。颇尔公司提供过滤、纯化和分离解决方案,可广泛用于各类流体,例如化学品、气体、水、CMP研磨液和光阻。
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CMP

颇尔的CMP过滤器可有效去除较大的研磨颗粒,并维持所需的研磨颗粒配方和化学构成。采用根据ILD、STI、钨、铜、阻挡层铜等抛光液定制的选项,采用颇尔过滤器可减少微小划痕、电弧擦痕、震纹和加工不稳定性。
颇尔的CMP过滤器可有效去除较大的研磨颗粒,并维持所需的研磨颗粒配方和化学构成。采用根据ILD、STI、钨、铜、阻挡层铜等抛光液定制的选项,采用颇尔过滤器可减少微小划痕、电弧擦痕、震纹和加工不稳定性。
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光刻

颇尔光刻过滤器使用一系列自行研制的薄膜材料,以最大程度地减少颗粒、金属污染、凝胶和微小气泡。经优化的过滤器设计可减少启动过程中的化学品使用量,并使晶圆表面的缺陷最小化,提高产量。
颇尔光刻过滤器使用一系列自行研制的薄膜材料,以最大程度地减少颗粒、金属污染、凝胶和微小气泡。经优化的过滤器设计可减少启动过程中的化学品使用量,并使晶圆表面的缺陷最小化,提高产量。
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工艺气体过滤

颇尔的工艺气体过滤器可通过最先进的过滤技术有效去除颗粒。其优势包括过滤效率高、流量大且压差小、杂质气体溢出少。此外,我们的全金属过滤器对于分子污染具有高度透过性。
颇尔的工艺气体过滤器可通过最先进的过滤技术有效去除颗粒。其优势包括过滤效率高、流量大且压差小、杂质气体溢出少。此外,我们的全金属过滤器对于分子污染具有高度透过性。
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工艺气体纯化

一种清除和最少化有害分子污染物的方法,对于传统颗粒过滤方法无法企及的领域而言具有重要意义,颇尔的大容量纯化系统可高效去除分子杂质,使用寿命长,从而降低成本。
一种清除和最少化有害分子污染物的方法,对于传统颗粒过滤方法无法企及的领域而言具有重要意义,颇尔的大容量纯化系统可高效去除分子杂质,使用寿命长,从而降低成本。
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微量水分检测

颇尔的微量水分检测系统可在纯化器使用寿命结束前实施早期警告,并能识别工艺气体管路中有害的水分污染。此类系统最适用于在紧凑型的可移动平台上对超高纯度氩气、氮气和清洁干燥空气(CDA)进行认证和定性处理。
颇尔的微量水分检测系统可在纯化器使用寿命结束前实施早期警告,并能识别工艺气体管路中有害的水分污染。此类系统最适用于在紧凑型的可移动平台上对超高纯度氩气、氮气和清洁干燥空气(CDA)进行认证和定性处理。
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超纯水

颇尔的超纯水过滤产品可去除胶质污染物,例如硅石、细菌分解物。此系列的过滤器和纯化器可有效清除UPW系统的污染物,以降低金属离子和分子污染的有害影响。
颇尔的超纯水过滤产品可去除胶质污染物,例如硅石、细菌分解物。此系列的过滤器和纯化器可有效清除UPW系统的污染物,以降低金属离子和分子污染的有害影响。
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湿式蚀刻和清洁

Ultipleat® SP DR 过滤器可为HF和BOE等关键表面处理化学品池提供先进的2nm拦截技术。具有专利的非对称性气孔设计,系根据颇尔自主研制的铸膜技术而开发,可降低流动阻力,延长使用寿命。
Ultipleat® SP DR 过滤器可为HF和BOE等关键表面处理化学品池提供先进的2nm拦截技术。具有专利的非对称性气孔设计,系根据颇尔自主研制的铸膜技术而开发,可降低流动阻力,延长使用寿命。
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更高的流速。更长的使用寿命。

适用于半导体制造的先进过滤和分离解决方案,具有先进的纳米拦截功能,可获得最佳效果,并节省成本。

一种清除和最少化有害分子污染物的方法,对于传统颗粒过滤方法无法企及的半导体制造领域而言,其具有重要意义。颇尔的大容量纯化系统可去除分子杂质,且有很长的使用寿命。颇尔过滤器在分子拦截、渗透性、纯净度和耐用性方面性能卓越。半导体行业应用包括集成电路、数据存储、平板显示和光伏产品。

 

我们遵循EPA 2010/15 PFOA自主削减计划,含氟聚合物生产过程中不再使用PFOA(全氟辛酸铵)作为加工辅助材料。此计划已在全球范围内得到了含氟聚合物制造巨头及其客户的认可。“不含PFOA”一词表示过滤器材料配方中不含微量成分PFOA。用于湿式蚀刻和清洁应用的所有含氟聚合物过滤器组件均不含PFOA材料。

 

异丙醇(IPA)是一种半导体行业中常用的晶圆干燥化学品。随着半导体器件尺寸的变小,IPA中的污染物控制水平日趋严格。过滤对于减少污染物起到重要作用,为了符合这一要求,我们将致力于为市场提供最先进的技术。通过IPA清除的颗粒尺寸要求更小,以达到与污染物控制水平保持一致。对IPA过滤器的另一个重要要求是使过滤器自身的释放物最少化。聚四氟乙烯(PTFE)薄膜过滤器取代了高密度聚乙烯(HDPE)薄膜过滤器,用途更广。

 

我们用于半导体应用的纯化和过滤技术具有 先进的纳米拦截功能。如需更多信息,可点击这里查看订购信息或和颇尔专家进行交流。

颇尔过滤器在颗粒拦截、穿透性、纯净度和耐用性方面性能卓越。