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湿法蚀刻和清洗

提升品质,避免缺陷

清除颗粒物,提高光伏晶片表面清洁度,从而提高产率

颇尔湿法蚀刻清洗系统可为不同灭菌系统提供清洁解决方案,例如,循环化学浴、高压喷射和机械清洗系统。有效过滤对于避免化学浴出现颗粒物很重要,从而有效清洗晶片表面。颇尔湿法蚀刻清洗过滤器可强力清除化学浴中的杂质,否则会降低PV表面电性能。

 

颇尔提供各种适合化学品、气体和水应用的过滤产品:

 

  • 循环浴
  • 单通系统
  • 高速喷射系统
  • 快速倾泻冲洗系统
  • 机械净化系统

 

用于循环浴的晶体硅电池处理化学品过滤

 

在清洗和蚀刻过程中,通过形成捕获杂质的屏障,颇尔过滤器可有效降低晶片表面上的颗粒物污染。为了避免零件堵塞和导致意外设备停机,保护关键滤孔(即清洗喷嘴)的步骤很关键。通过在回路中安装有效的颇尔过滤装置,可最大程度地提高循环浴流体回收效率。过滤可极大地延长处理浴化学品的可用寿命。过滤还提高化学浴清洁度,避免缺陷扩散至晶片表面和污染物进入化学品,这同样会提高晶片质量。

 

锯损伤蚀刻和织构化过滤

 

Profile A/S过滤器专门设计提供高成本效益的解决方案,用于热和/或高度污染的腐蚀性化学品,使其理想用于碱织构化处理。

 

磷扩散、氧化物蚀刻和边缘隔离用过滤

 

Claris系列筒式过滤器设计具有全聚丙烯分级微孔结构,可提高使用寿命。产品构造不使用表面活性剂、结合剂或胶粘剂,从而使滤材更安全,不会对化学反应产生不良影响。

 

Nexis T系列筒式过滤器与Claris过滤器类似,但可承受更高温度和压差,因此可用于各种极端工艺条件。

 

Profile II过滤器由全聚丙烯结构构成,高孔隙度可提高使用寿命。

 

产品构造不使用表面活性剂、结合剂或胶粘剂,所以滤材更安全,不会对化学反应产生不良影响。

 

抗反射涂层过滤

 

用于形成抗反射涂层或非晶硅薄膜的氢气和硅烷气体中的分子污染会导致许多工艺问题,例如,涂层不均匀以及颗粒物产生导致的其它类型缺陷。Gaskleen II净化器可将氢气和硅烷气体产生的水分和氧气降至<1ppb。净化器还可清除痕量硅烷和掺杂金属,例如,硅烷中的AsPAlBGaskleen Light系列过滤器组件提供最先进的光伏市场用气体过滤,并可将成本降至最低。

 

外壳建议

 

Megaplast外壳

 

  • 材质可选聚丙烯、PVDFPFA
  • 可选10"20"
  • 可选总管连接

 

优点:

 

  • 提高工艺稳定性
  • 提高面积/工艺效率
  • 延长化学品使用寿命
  • 减少硬盘缺陷
  • 减少设备意外停机

 

颇尔湿法蚀刻清洗过滤器避免会导致关键清洗系统产生污染物的缺陷。欢迎联系颇尔专家,了解如何更好地控制工艺条件,从而提高运行效率和PV产率。

 
 
 

有关提高工艺效率的更多信息,请联系我们的过滤专家团队。

 

 
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