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CMP

出众的过滤性能

优异的CMP过滤改善微电子制造工艺的稳定性

污染控制是LED制生产过程中的最受关注的问题之一。通过控制浆料颗粒的形状、尺寸和浓度,颇尔CMP过滤器可实现LED工艺性能的最优化,可实现更高产率和更少缺陷。该过滤器可控制浆料颗粒尺寸、形状和大颗粒(LPC)密度,达到LED制造工艺参数。这种优异过滤性能可减少缺陷和过程偏移,例如,微划痕、抛光速率不稳定、化学反应和应力破裂等。

 

正常情况下,浆料过滤器位于硬盘抛光系统中的2个位置:

 

  1. 浆料再循环回路中
  2. 位于囊式过滤器靠近抛光工具时的使用点(POU

 

颇尔提供用于大宗和POU应用的各种滤材和结构,使基材/滤材生产商能够满足超光滑晶圆的要求。

 

可根据工作压力和浆料化学特性定制过滤器。颇尔优异的CMP过滤器都具有可增强过程控制和稳定性、增加面积/过程效率以及延长浆料寿命的优点。可用于各种流速,而且表面积更大可延长工具寿命。这种优异的解决方案可延长零件更换间隔期,滤器囊较小便于在工具上或工具附近安装。

 

通过清除污染物和控制浆料尺寸、形状和化学性质,我们的CMP过滤器可实现各种LED CMP过程性能的最优化。请联系颇尔专家,了解优化您的CMP浆料过滤,实现最大的使用效果。

 

有关提高工艺效率的更多信息,请联系我们的过滤专家团队。 

 
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