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气体过滤和净化

纯净和高品级解决方案

工艺气体过滤和净化—分离有害杂质和污染物

我们的工艺气体过滤和净化系统可除去杂质和污染物,实现显示器的高效生产和提高像素密度。技术包括高效清除颗粒、大流量、低压差和释气量低。可明显去除分子污染。

 

颇尔工艺气体净化系统可选各种材质,例如PTFE、不锈钢、镍或陶瓷滤材,从而满足室温或高温惰性或腐蚀性气体的相容性要求。该系统可除去常见分子杂质,包括水分、氧气、二氧化碳、一氧化碳和碳氢化合物。颗粒物过滤无法清除这些杂质,它们需要材料反应床进行清除。工艺气体过滤和净化的另一个问题是过滤器可能释放有害杂质和颗粒脱落。在设计过滤器和净化零件时,颇尔将质量放在首位,深知正确选择材料、清洁度标准、外壳表面处理以及专业生产过程等质量相关因素的重要性。

 

应用:

  • 散料分配系统
  • 使用点(POU
  • 大流量气体
  • 快速排气和载量锁定接口
  • 真空室

 

优点:

  • 减少气体相关缺陷
  • 可定制滤材,过滤各种气体
  • 低拥有成本(CoO
  • 行业领先的过滤器品质
  • 减少除气和颗粒物杂质

 

我们的工艺气体过滤和净化系统可减少关键工艺气流中的颗粒物和杂质。请联系颇尔专家,帮助您优化系统,通过消除缺陷实现最大现场效果。

 

有关提高工艺效率的更多信息,请联系我们的过滤专家团队。 

 
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