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清洗

清除有害颗粒

高级显示器清洗系统实现大流量和行业领先的颗粒清除

湿法蚀刻清洗

我们的湿法蚀刻清洗系统为灭菌系统提供清洗解决方案,包括再循环化学浴、高压喷水和机械洗涤系统。这些可定制过滤器可避免显示器内表面出现缺陷。湿法蚀刻过滤器可强力消除化学浴中的杂质,避免损坏显示器功能。可选30-100nm范围内的最先进产品,满足各种湿法蚀刻清洗过程中的所有微电子显示器应用。

 

抛光后清洗

颇尔提供用于大型和POU应用的各种滤材和结构,使基材生产商能够满足超光滑晶圆的要求。通过清除有害颗粒污染物,这些高级过滤器可提高清洗后的清洁度。可根据不同工作压力和化学特性要求进行定制。UPK设计采用全氟聚合物零件,可用于各种化学特性要求。

 

我们的后抛光系统可提高工艺稳定性,避免下游设备结垢,从而缩短停机时间、增加维护节约和提高工艺产率。 

 

 

光刻工艺清洗

我们的光刻过滤器系统使用多种膜材料,可有效清除光刻工艺化学品中的污染物。散料过滤器和使用点(POU)分液过滤器可避免颗粒有害沉降,减少显示器基板上的缺陷。除了清除颗粒和凝胶外,POU过滤器还将微气泡降至最低,减少化学品消耗和提供独特相容性。

 

我们的过滤器采用优化设计,在大流量条件下可产生无可比拟的颗粒清除效率,适用于产生高分辨率大型基材尺寸所需要的腐蚀性化学品。ECTFE滤材设计清除凝胶/软颗粒,延长化学品使用寿命。

 

优点:

  • 提高工艺稳定性
  • 提高面积/工艺效率
  • 延长化学品使用寿命
  • 减少显示器缺陷

 

我们的显示器清洗系统可清除重要清洗系统中可导致缺陷的污染物。如需更多信息,请立即联系颇尔专家。

 

有关提高工艺效率的更多信息,请联系我们的过滤专家团队。

 

 
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