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询问我们如何能帮助您改善镀层、抛光粉、清洁液体(UPW、IPA)和润滑过程。

未来可见

专为满足您的需求而设计。从各种创新、高效的应用中选择。

平板显示屏制造商一直面临着一项挑战,即制造更具成本效益的显示屏。TFT-LCD显示屏(薄膜晶体管液晶显示屏)的制造商占全球平板面板市场的80%,他们必须不断推出新制造技术,以实现对于更高像素分辨率的需求。为了应对这些挑战,对于8.5 代和更大尺寸的世代线而言,对制造过程中使用的液体和气体污染控制至关重要。

 

无论是哪种应用或要求,我们所具备的相关技术和专业知识,可帮助显示屏制造商减少缺陷、停机时间最小化、提高显示屏质量并提高盈利。

 

数据存储行业中的面密度不断提高,以至于污染控制成为极为重要的环节。选择正确的过滤器技术对于产量最大化,单位磁盘成本保持在尽可能低的水平而言具有重大意义。我们具备满足这些要求的过滤技术、制造经验和过程知识。

CDA

在业态形势复杂的显示屏行业,CDA被广泛用于各种制程,对气动系统的效率具有重要作用。颗粒污染可加速气动系统损耗,阀门堵塞,从而导致停机时间以及运行成本增加。
在业态形势复杂的显示屏行业,CDA被广泛用于各种制程,对气动系统的效率具有重要作用。颗粒污染可加速气动系统损耗,阀门堵塞,从而导致停机时间以及运行成本增加。
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清洗

用于显示行业的颇尔清洗系统可清除杂质和污染物,这些物质会引发过程突发异常,例如化学反应、表面缺陷和无效清洁。颇尔提供一系列具有良好化学兼容性,可用于腐蚀性化学品(臭氧水、氢氟酸、光阻)的过滤器,流量高且...
用于显示行业的颇尔清洗系统可清除杂质和污染物,这些物质会引发过程突发异常,例如化学反应、表面缺陷和无效清洁。颇尔提供一系列具有良好化学兼容性,可用于腐蚀性化学品(臭氧水、氢氟酸、光阻)的过滤器,流量高且...
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彩色滤光片

俘获颗粒、污染物、气泡和胶体会造成液晶显示屏彩色滤光片表面不一致。为了保持深度一致性,清除针孔存在的可能性,以及使整体产品质量最大化,则需要对有害杂质进行控制。
俘获颗粒、污染物、气泡和胶体会造成液晶显示屏彩色滤光片表面不一致。为了保持深度一致性,清除针孔存在的可能性,以及使整体产品质量最大化,则需要对有害杂质进行控制。
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气体过滤和纯化

颇尔工艺气体过滤和净化系统采用行业领先的技术,可有效去除颗粒和分子杂质。这些系统设计用于减少可造成产量降低的颗粒和杂质,防止其在显示关键制程中增加缺陷。
颇尔工艺气体过滤和净化系统采用行业领先的技术,可有效去除颗粒和分子杂质。这些系统设计用于减少可造成产量降低的颗粒和杂质,防止其在显示关键制程中增加缺陷。
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ODF

颇尔的液晶滴下过滤系统可封堵和清除液晶(LC)材料内可造成粘性颗粒和污染物的缺陷,以减少各种表面缺陷。通过使用为专低压过滤环境设计的过滤器可有效减少液晶表面的缺陷,并消除在液晶滴下过程中导致缺陷的微气泡。
颇尔的液晶滴下过滤系统可封堵和清除液晶(LC)材料内可造成粘性颗粒和污染物的缺陷,以减少各种表面缺陷。通过使用为专低压过滤环境设计的过滤器可有效减少液晶表面的缺陷,并消除在液晶滴下过程中导致缺陷的微气泡。
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有机材料和打印

高质量的喷墨打印过滤需要进行优化,以获得正确的着色和输出可重复性,并将成本保持在最低水平。污染物导致的有机薄膜表面缺陷等问题,可通过使用颇尔过滤系统得以明显减少。颇尔提供具有成本效益的解决方案用于...
高质量的喷墨打印过滤需要进行优化,以获得正确的着色和输出可重复性,并将成本保持在最低水平。污染物导致的有机薄膜表面缺陷等问题,可通过使用颇尔过滤系统得以明显减少。颇尔提供具有成本效益的解决方案用于...
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光刻

颇尔光刻胶过滤器采用众多自主研制的薄膜材料,以最大程度地减少金属离子、胶体和微气泡形成。经优化的过滤器设计可减少启动过程中的化学品用量,并最大程度减少晶元表面缺陷。
颇尔光刻胶过滤器采用众多自主研制的薄膜材料,以最大程度地减少金属离子、胶体和微气泡形成。经优化的过滤器设计可减少启动过程中的化学品用量,并最大程度减少晶元表面缺陷。
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湿蚀刻化学品

颇尔湿蚀刻清洗过滤器可清除高流速应用中的杂质和污染物,这些物质会引发制程突发异常,如化学反应、表面缺陷和无效清洁,从而造成显示屏质量下降。
颇尔湿蚀刻清洗过滤器可清除高流速应用中的杂质和污染物,这些物质会引发制程突发异常,如化学反应、表面缺陷和无效清洁,从而造成显示屏质量下降。
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分析工艺气体。清除杂质。

先进的显示屏清洁系统可提供高流量和行业领先的过程气体分析与颗粒清除

颇尔提供用于显示屏生产的工艺气体分析和过滤技术解决方案。平板显示屏制造商一直面临着挑战,即制造更具成本效益的显示屏。显示屏制造商必须不断推出新的制造技术,以实现对于更高像素分辨率的要求。为了满足这些挑战,在制造过程中对所用液体和气体进行污染控制至关重要。

 

颇尔的Gaskleen® Pico1000分析器可测量氮气和氩气工艺气体流中的微量水分,检测极限为每兆300个(300 ppt)。此系统最适用于超高纯度工艺气体的定性处理和认证测试,由此可检测纯化器使用寿命结束时间。通过其坚固紧凑的设计,用户可轻松地将其在设施周围移动进行工艺气体质量的快速检查,或解决潮湿所造成的突发状况。Pico1000相比市场上同类型的分析器,其消耗的工艺气体量可减少达70%。

 

Pall Ultipleat® G2 SP DR 过滤器设计专用于在HF和BOE等重要的表面制备化学液槽内实施高流速的、改良型颗粒去除过程。SP DR 过滤器采用颇尔自主研发的薄膜建模技术(MMT),具有高度非对称性薄膜结构,可使在整个深度范围内从微气孔到纳米气孔的转换过程中,气孔尺寸具有统一分布。由此,这些过滤器可滞留最小至2纳米的颗粒,而不会对流量产生限制。

 

Pall Ultipleat® G2 SP DR KC组装件是完全一次性使用的过滤器单元,最适合用于蚀刻液、低温剥离化学品和DI水过滤。这些高质量的过滤器可实现MMT加强型双倍颗粒保留优异的HF过滤,更高的流速,以更长的使用寿命。极细小的微孔薄膜点阵可生成高表面能量薄膜,以最大程度减少微气孔的形成。用户还能通过使用KC一次性组装件防止过程污染。

 

颇尔显示屏清洁系统可彻底清除重要清洁系统中可造成缺陷的污染物。如需更多信息,可点击这里联系颇尔专家。

颇尔提供用于微电子显示屏生产的工艺气体分析和过滤技术解决方案。