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CMP

实现最大性能

可提高过程能力且减少微痕的数据存储CMP过滤

通过控制浆料颗粒的形状、尺寸和浓度,我们的CMP过滤器可实现更高产率,减少缺陷。采用我们行业领先的过滤器设计,可将浆料颗粒尺寸、形状和大颗粒(LPC)密度控制在规定的工艺参数范围内。

 

有效过滤可减少缺陷和工艺偏离,从而减少微痕。我们的专家将充分利用现场过滤方案,通过正确实施延长浆料寿命和浆料分布系统寿命。我们的CMP过滤器具有连续的异形微孔结构,可实现内置预过滤和,延长工作寿命。

 

应用:

浆料过滤器通常位于硬盘抛光系统中的2个位置:浆料再循环回路中和使用点(POU)处,其中囊式过滤器安装在抛光工具附近。颇尔公司提供用于大型和POU应用的各种滤材和结构,使基材/滤材生产商能够满足超光滑晶圆的要求。颇尔过滤器可根据工作压力和浆料化学特性进行定制。通过使用颇尔CMP过滤系统,可以实现工艺稳定性。

 

优点:

 

  • 提高工艺控制和稳定性
  • 提高面积/工艺效率
  • 延长浆料寿命
  • 减少微痕

 

通过清除污染物和控制浆料尺寸、形状和化学性质,我们的CMP过滤器可提高任何CMP工艺。请联系颇尔专家,了解优化您的CMP浆料过滤,实现最大的工艺效果。

 

有关提高工艺效率的更多信息,请联系我们的过滤专家团队。

 

 
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让我们合作。我们想立即与您分享我们的创新过滤解决方案。请联系我们经验丰富的主题专家,了解我们为您提供帮助。谢谢,我们将尽快协助您。

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